ITO导电膜镀膜设备

该系列是全自动溅镀装置,可以在滤色片、玻璃基片上形成多层SiO2、ITO等,兼具出色的溅镀技术和很强的量产能力,可满足从小规模生产到大量生产的广泛需求。

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      ITO导电膜镀膜设备是全自动溅镀装置,可以在滤色片、玻璃基片上形成多层SiO2、ITO等,兼具出色的溅镀技术和很强的量产能力,可满足从小规模生产到大量生产的广泛需求。

特点:
1、采用旋转溅射的间歇式沉积法,可以得到卧式排列成膜所无法得到的薄膜特性。
2、为了长时间稳定地溅镀低电阻ITO膜而研发出的新型ITO用溅射阴极,使靶使用效率比传统型高磁力阴极提高了1倍,非常有效地降低了ITO成膜的成本。
3、采用了将靶和基片垂直立着处理的滚筒旋转侧面溅射法,使维修简便易行。
4、在各种机构中采纳了从丰富的经验中产生出来的气泡对策和维修对策。

型号 HC-ITO-700 HC-ITO-1000 HC-ITO-1900
安装面积 W3500×D3600×H2350mm W3500×D5500×H3000mm W6200×D6200×H6500mm
基片伞架 Φ630×H330 Φ900×H760 φ1700×H1420
成膜方式 DC/RF磁控管的侧面溅射方式
靶类型 方形溅射源(带宽蚀机构)
压缩空气 不低于0.5MPaG(最高0.7MPaG)

 

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